ULVAC-PHI 动态二次离子质谱仪D-SIMS型号:PHI ADEPT010

2025-11-17

动态二次离子质谱仪D-SIMS

ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计,是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。

品牌:ULVAC-PHI

型号:PHI ADEPT010

ADEPT-1010 专为浅层半导体注入和绝缘薄膜的自动分析而设计,是大 多数半导体开发和支持实验室的常用工具。通过优化的二次离子收集光学系统 和超高真空设计,提供了薄膜结构检测中的掺杂组分和常见杂质所需的灵敏度。

特点:

1)大束流低能量离子设备设计,极大的提高了深度分辨率

2)高性能离子光学系统,改善了二次离子传输效率,在提高分析效率的同时又提高了检测灵敏度

3)高精度全自动5轴样品操控台

4)不同方向进入检测器的二次离子,均可被高灵敏地收集检测

应用实例分析

采用一次离子源Cs在加速5kV束流为100nA的条件下,分析GaAs中注入的H,C,O元素。可以看到H检测限值7.1X1016 atm/cm3,O检测限值4.4X1015 atm/cm3,C检测限值2.0X1015 atm/cm3。

© ULVAC-PHI 动态二次离子质谱仪D-SIMS型号:PHI ADEPT010 常备现货
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