ArF光刻胶KrF光刻胶I-LINE光刻胶电子束光刻胶 封装光刻胶

包括ArF-immersion（topcoat less）产品和ArF-dry产品，树脂结构为甲基丙烯酸酯/丙烯酸酯系列体系，伴有金刚烷等功能单元，具有高分辨率、高灵敏度、耐刻蚀等特点，技术能力已经达到28nm技术节点，目前已有10+支产品在国内知名12寸Fab验证，部分产品已获批量订单。

曝光波长 产品名称 技术节点及应用 工艺能力CD 工艺能力THK 图像

193nm IMM HTA116 N40nm-14nm PTD L/S 0.063um 0.16-0.24um

193nm IMM HTA112 N40nm-14nm PTD C/H 0.080um 0.13-0.20um

193nm Dry HTA121 N90-40nm PTD L/S 0.08um 0.20-0.30um

193nm Dry HTA1101 N90-40nm PTD C/H 0.09um 0.15-0.21um

193nm Dry HTA1123 N90-40nm PTD C/H 0.10um 0.20-0.30um

193nm Dry HTA1201 N90-40nm PTD C/H 0.10um 0.23-0.35um

193nm IMM HTA2031 N40nm-14nm PTD C/H 0.045um 0.08~0.10um

193nm IMM HTA2011 N40nm-14nm PTD C/H 0.065um 0.09~0.12um